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离子溅射仪
  • 阅读次数：
  • 发布时间：2023-08-04
  • 更新时间：2023-08-09

仪器名称

离子溅射仪

规格型号

日本 HITACHI MC1000

主要性能技术指标

金靶沉积速率：50 nm/min， 铂金靶沉积速率：30nm/min

主要功能和服务范围

电镜样品预处理

送样要求

喷金时间工作范围：20 s - 40 s

联系人

周明；鞠桐；邓谦谦

放置地点

弘毅楼B107